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高真空系統(tǒng) MFLGZK-16-600

簡要描述：600系列高真空系統(tǒng)采用機械泵和分子泵組成的系統(tǒng)，真空度可以到10-5次pa

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高真空系統(tǒng)MFLGZK-16-600

主要特點	600750mm的承重臺面，可配合管式爐使用，節(jié)約空間。·極限真空度可達到10-4Pa，滿足大多數高真空實驗要求。·連接管路采用全不銹鋼，電拋光制作，零件焊接漏率優(yōu)于110-9Pa.m3/s。·滾輪上裝有制動裝置，提高安全性。
基本參數	工作電電壓：220V±10%，50~60HZ ·功率： 1KW·工作環(huán)境溫度：5~32℃·空氣相對濕度： ≤80%·系統(tǒng)極限真空度：1.0*10-4Pa·抽氣速率： N2--33 L/s、He--39 L/s、H2--32 L/s
TVP-9機械泵	抽氣速率：9L/S·電機功率：0.75KW ·極限壓強4*10-2Pa
分子泵控制電源	電壓：200~240V· 輸出功率：150W· 加速時間：3分鐘· 輸出頻率：高速704Hz±10%低速430 Hz±10%

F-160/620C分子泵	潤滑油量	150ml	壓縮比	N2:10 的 5 H2:6*10的4
	啟動時間	＜10min	冷卻水溫度	＜25℃
	輸出頻率	400Hz+10Hz	輸出電壓	120V
	啟動電流	5A	工作電流	2A
	進氣口通徑	DN160LF	排氣口通徑	KF40mm
	抽氣速率	600L/s	極限壓強	6*10-7Pa
復合真空計	測量范圍：1.0x10 - 1.0x10-5pa 探測路數：2 路顯示方式：LED 數顯功耗：55W 控制精度：±1% 響應時間：<1S

開啟式真空管式爐是一種廣泛應用于材料科學、物理化學研究以及工業(yè)生產的特種加熱設備。它的設計允許在真空或特定氣氛條件下對樣品進行加熱處理，適用于半導體材料生長、納米材料合成、陶瓷燒結、金屬熱處理等多個領域。

開啟式真空管式爐基本構造

1.加熱區(qū)：通常由電阻絲、石墨或感應線圈構成，負責產生所需的高溫環(huán)境。

2.真空腔體：配備有氣密門，可在真空或惰性氣體環(huán)境下操作，確保實驗的純凈度。

3.溫控系統(tǒng)：包括PID控制器、熱電偶或紅外輻射計，實現溫度的精確調節(jié)與監(jiān)控。

4.抽氣系統(tǒng)：配置機械泵或渦輪分子泵，抽取爐內空氣，達到所需真空度。

5.安全防護：設有過熱保護、漏電斷路等機制，保障操作者的安全。

開啟式真空管式爐主要特征

1.氣氛可控：可選擇不同氣體填充，適應不同的實驗條件。

2.操作靈活：開啟式設計便于樣品裝載，節(jié)省時間和勞動強度。

3.結構緊湊：占地面積小，適合實驗室空間有限的情況。

開啟式真空管式爐應用領域

1.新材料開發(fā)：合成新型半導體材料，如碳納米管、石墨烯等。

2.金屬合金制備：在真空中熔煉合金，去除雜質，改善性能。

3.催化作用研究：探索催化劑在高溫、低氧條件下的活性變化。

4.生物醫(yī)學工程：生產醫(yī)用鈦合金植入物，需在嚴格無菌條件下成型。

5.考古學：考古樣品的老化實驗，模擬古代物品經歷的時間環(huán)境。

6.藝術創(chuàng)作：特殊玻璃藝術品制作，利用不同氣氛下的顏色反應。

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